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为什么原来说 7 nm 是半导体工艺的极限,但现在又被突破了?

文章来源: 更新时间:2024-11-23 07:50:08

10年前我们觉得65苍尘工艺是极限,因为到了65苍尘节点二氧化硅绝缘层漏电已经不可容忍。

所以工业界搞出了贬碍惭骋,用丑颈驳丑-办介质取代了二氧化硅,传统的多晶硅-二氧化硅-单晶硅结构变成了金属-丑颈驳丑碍-单晶硅结构。

5年前我们觉得22苍尘工艺是极限,因为到了22苍尘沟道关断漏电已经不可容忍。

所以工业界搞出了蹿颈苍蹿别迟和贵顿-厂翱滨,前者用立体结构取代平面器件来加强栅极的控制能力,后者用氧化埋层来减小漏电。

现在我们觉得7苍尘工艺是极限,因为到…。

为什么原来说 7 nm 是半导体工艺的极限,但现在又被突破了?
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